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半导体行业配套冷水机-原子层沉积设备(ALD)
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半导体行业配套冷水机-原子层沉积设备(ALD)

半导体行业配套冷水机-原子层沉积设备(ALD)

设备工作时,反应腔体、真空泵、等离子体、等部位均会产生高温,需要冷却装置对其进行控温,并维持在特定的温度范围内。

应用描述

主设备原理:

原子层沉积设备是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的设备。


配置说明:

根据需冷却部位的功率之和计算,具体可以联系销售工程师。主要使用AL系列水冷式冷却水循环机。

使用去离子水,因此与水接触的部位全部为不锈钢,不能出现铜,放在洁净间使用,对震动和噪音要求很高,因此一般为分体RG或水冷AL系列。如AL10


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