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半导体行业配套冷水机-化学气相沉积设备(VCD)
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半导体行业配套冷水机-化学气相沉积设备(VCD)

设备工作时,反应腔体、真空泵、等离子体、激光器等部位均会产生高温,需要冷却装置对其进行控温,并维持在特定的温度范围内。

应用描述

主设备原理:

指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。


配置说明:

根据需冷却部位的功率之和计算,具体可以联系销售工程师。主要使用AL系列水冷式冷却水循环机。使用去离子水,因此与水接触的部位全部为不锈钢,不能出现铜,放在洁净间使用,对震动和噪音要求很高,因此一般为分体RG或水冷AL系列。