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半导体行业配套冷水机-物理气相沉积设备(PVD)
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半导体行业配套冷水机-物理气相沉积设备(PVD)

设备工作时,阴极靶枪、真空泵、等离子体等部位均会产生高温,需要冷却装置对其进行控温,并维持在特定的温度范围内。

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应用描述

主设备原理:

物理气相沉积设备是在真空条件下,实现将材料源电离成离子,并在在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜技术的设备。


配置说明:

根据需冷却部位的功率之和计算。主要使用AL系列水冷式冷却水循环机。使用去离子水,因此与水接触的部位全部为不锈钢,不能出现铜,放在洁净间使用,对震动和噪音要求很高,因此一般为分体RG或水冷AL系列。


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